泛林集团@@

引入空气间隙以减少前道工序中的寄生电容@@

本文中@@,我们将专注于前道工序@@ (FEOL),并演示在栅极和源极@@/漏极之间引入空气间隙的@@SEMulator3D®模型@@

使用虚拟实验设计预测先进@@FinFET技术@@的工艺窗口和器件性能@@

作者@@:Coventor(泛林集团@@旗下公司@@)半导体工艺与整合@@ (SPI) 高级工程师王青鹏博士@@