SEMulator3D

半大马士革集成中引入空气间隙结构面临的挑战@@

随着器件微缩至@@3nm及以下节点@@,后段模块处理迎来许多新的挑战@@,这使芯片制造商开始考虑新的后段集成方案@@

使用半大马士革工艺流程研究后段器件集成的工艺@@

随着技术@@推进到@@1.5nm及更先进节点@@,后段器件集成将会遇到新的难题@@,比如需要降低金属间距和支持新的工艺流程@@