DRAM

佰维发布@@CXL 2.0 DRAM,赋能高性能计算@@

佰维成功研发并发布了支持@@CXL 2.0规范的@@@@CXL DRAM内存@@扩展模块@@。CXL 2.0 DRAM采用@@EDSFF(E3.S)外形规格@@,内存@@容量高达@@96GB

美光率先为业界伙伴提供基于@@ 32Gb 单裸片@@ DRAM 的@@高速率@@、低延迟@@ 128GB 大容量@@ RDIMM 内存@@

美光推出基于@@ 32Gb 单裸片@@的@@@@ 128GB DDR5 RDIMM 内存@@,具有高达@@ 8,000 MT/s 速率的@@一流性能@@,可支持当前及未来的@@数据中心工作负载@@。

以工艺@@窗口建模探索路径@@:使用虚拟制造评估先进@@DRAM电容器图形化的@@工艺@@窗口@@

本文将举例说明如何借助虚拟制造评估@@ DRAM 电容器图形化工艺@@的@@工艺@@窗口@@

SK海力士@@全面推进全球最高速率@@LPDDR5T DRAM商用化@@

LPDDR5T的@@16 GB容量套装产品@@可在国际半导体标准化组织@@(JEDEC)规定的@@最低电压@@1.01至@@1. 12V(伏特@@)标准范围下运行@@

三星@@发布其容量最大的@@@@12纳米级@@32Gb DDR5 DRAM产品@@

在相同封装尺寸下@@,容量是@@16Gb内存@@模组@@的@@两倍@@,功耗降低@@10%,且无需硅通孔@@(TSV)工艺@@即可生产@@128GB内存@@模组@@

为什么消费类@@DRAM无法满足工业应用需求@@?

本文将探讨消费类@@DRAM和工业@@DRAM之间的@@差异@@,并揭示不正确使用@@DRAM的@@风险@@

SK海力士@@开发出全球最高规格@@HBM3E,向客户提供样品进行性能验证@@

SK海力士@@21日宣布@@,公司成功开发出面向@@AI的@@超高性能@@DRAM新产品@@@@HBM3E1,并开始向客户提供样品进行性能验证@@@@。

三星@@D1a nm LPDDR5X器件的@@@@EUV光刻@@工艺@@@@

TechInsights发现了四种@@EUV光刻@@(EUVL)工艺@@,用于阵列有源切割@@/外围有源@@(有源修剪@@)、位线接触@@(BLC)、存储节点接触垫@@(SNLP)/外围第一金属层@@ (M1)和存储节点@@(SN)管图形化@@

3D DRAM时代即将到来@@,泛林集团这样构想@@3D DRAM的@@未来架构@@

动态随机存取存储器@@ (DRAM) 是一种集成电路@@,目前广泛应用于需要低成本和高容量内存@@的@@数字电子@@设备@@@@

10nm后@@,DRAM有这些发展方向@@

半导体公司正在推动@@ DRAM 的@@进步@@,突破性能@@、密度和效率的@@界限@@。这是最近的@@一些例子@@